市场上大多数旋涂机进行旋转涂布的时候都通过真空方法固定基片。Ossila旋涂机则与众不同，它使用创新型卡盘，不需真空固定即可进行旋转涂。基片通过聚丙烯卡盘上的凹口固定到位，这种设计同时也可以让多余的涂层材料排出，保证良好涂布效果。
Ossila旋涂机卡盘不需真空即可将基片固定到位，非常安全。Ossila公司可根据客户需求定制任意形状的卡盘，以进行各种形状基片的涂布，从而最大程度满足客户的使用需求。
真空卡盘的缺点是基片容易向上翘曲，影响涂布均一性。低均一性会降低基片品质，并影响机读效果。Ossila公司非真空旋涂机卡盘可以保证基片平直不受损坏，即便灵敏度非常高的基片涂布也能避免基片受损，保持高度平直性，从而涂布效果的均一性。
与普通旋涂机相比,Ossila旋涂机的非真空式涂布保证了膜片分布的高均一性。
真空式旋涂机只能在有真空管路的环境中使用，因为真空泵的存在，一旦放置后不易移动，灵活性差，尤其是不工作的时候也占用实验室空间。Ossila旋涂机不需真空泵，只需一个电源插座，即插即用，可以在工作台上使用，也可以放置于通风橱内或手套箱内使用，尺寸小巧，设置简便，机动性非常强。
大多数旋涂机价格并不包括真空泵，无形中增大了采购成本。另外，真空泵容易坏，增加了客户的后期维护成本及误工成本。真空泵的故障主要由过量溶剂被吸入真空管道导致内部组件受损引起。Ossila旋涂机不使用真空泵，大大减少了短期和长期的维护成本。
功能特征
节省空间的设计-占地面积只有22.5 17厘米,节省实验室空间。Ossila旋涂机形体小巧，移动方便，无论你想放置在通风橱里还是手套箱里，还是想放在实验台上，一切随心所欲。
目前紫外臭氧清洗机的主要应用表面UV光清洗和表面UV光改质。
1.表面UV光清洗：利用紫外光以及由其产生的臭氧OZONE，对有机物质所起的光敏氧化分解作用，以达到去除粘附在物体表面上的有机化合物（碳氢化合物），获得超洁净的表面。
2.表面UV光改质：利用紫外光照射有机表面，在将有机物分解的同时，254nm波长的紫外光被物体表面吸收后，将表层的化学结构切断，光子作用产生原子氧会与被切断的表层分子结合，并将之变换成具有高度亲水性的官能基（如-OH，-CHO，-COOH），从而提高表面的浸润性。
主要应用：
1.石英/玻璃制品的表面清洗：液晶面板,等离子电视屏幕,彩色过滤片,光罩,棱镜,透镜,反射镜,平板电视等。
2.微电子产品的表面清洗：微型马达轴,磁头驱动架,光盘,光电器件,手机摄像头,微型喇叭/受话器震膜,半导体硅片,掩膜版。
3.精密集成电路的表面清洗：液晶显示器ITO,精密电路板,软性电路板接头,BGA基板的清洗,COG的清洗,COF(ILB)接合面的清洗,薄膜基板的清洗,金属基板的清洗,BGA基板与粘结垫的清洗。
4.在胶粘接或是印刷之前，对高分子聚合制品的表面改性：橡胶粘接，塑料汽车部件，透镜保护膜,塑料薄膜,树脂成型空气袋,IC包装,注射針接合部份的表面性,介入导管的表面改型等。
5.科研过程的表面清洗及处理：半导体，生物芯片，纳米材料，聚合物，光化学等。
产品特点
1.成本低；
2.120x120mm样品台；
3.大处理样品高14mm；
4.抽屉式样品台，简单方便；
5.样品台自动安全开关,打开UV自动关闭，防止对人身伤害；UVO显示器
6.LCD屏显示 已用时间 和 剩余时间 ；
7.60分钟定时器；
8.高强度UV灯源；
9.可控温的样品台；
10.样品清洗无需溶剂；
11.超净表面。UVO样品托盘
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